日本techvision紫外线臭氧UV清洗装置高精度

日本techvision紫外线臭氧UV清洗装置高精度 UV-208/UV-312

所谓UV(紫外线)臭氧清洗装置,是指照射特定波长的紫外线,生成臭氧(O3),利用该生成的臭氧使有机化合物氧化·分解,从而去除工件表面的有机物污染,进行表面改性的UV臭氧清洗装置。

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日本techvision紫外线臭氧UV清洗装置高精度 UV-208/UV-312 特点介绍

所谓UV(紫外线)臭氧清洗装置,是指照射特定波长的紫外线,生成臭氧(O3),利用该生成的臭氧使有机化合物氧化·分解,

从而去除工件表面的有机物污染,进行表面改性的UV臭氧清洗装置。

紫外线(UV)臭氧紫外UV-208、UV-312在UV光源中采用了高密度网格形状的低压水银灯。

采用高密度网格状灯，可均匀照射整个工作区域。

日本techvision紫外线臭氧UV清洗装置高精度 UV-208/UV-312 规格参数

1使用高密度UV栅格灯。

2对工作表面照射均匀。

3节省空间、紧凑设计。

4简单的实用程序。

5易于操作，内置安全功能。

通过臭氧清洗和UV（紫外线）照射的表面改性，表面上的污垢（疏水性）被去除和清洗，润湿性（变成亲水性）（水滴扩散）。

润湿性的变化可以通过液体与固体表面接触时的接触角的变化（减小）来确认。润湿性的改变也会导致附着力的提高。

1清洗半导体晶片，光掩模，玻璃基板和光学元件。

2树脂零件的表面改性。

3以提高粘附性，涂层，印刷，气相沉积，焊料等的粘附性。

4改善工作表面的润湿性。

UV臭氧清洗原理

臭氧生成大气中的氧气（O2）吸收波长为184.9 nm的紫外线，生成臭氧（O3）

臭氧分解产生的臭氧（O3）还能吸收波长为253.7 nm的紫外线，产生O2和活性氧（O*）

有机物分解（清洗、表面改性）非常不稳定的活性氧（O*）与有机化合物结合，氧化分解为H2O，CO2，NOx等气体（与有机化合物结合，进行清洗和表面改性）。

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