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产品分类日本进口techvision全自动光掩膜清洗装置 TWC-200A全自动光掩膜清洗装置《TWC-200A》是一下子去除附着在掩模上的1μm以上的颗粒和抗蚀剂残渣的to盒的全自动光掩膜清洗装置。
联系电话:13823182047
日本进口techvision全自动光掩膜清洗装置 TWC-200A 特点介绍
全自动光掩膜清洗装置《TWC-200A》是一下子去除附着在掩模上的1μm以上的颗粒和抗蚀剂残渣的to盒的全自动光掩膜清洗装置。
干燥采用热纯水干燥,而不是传统的气刀干燥,并采用免调节设计,省去了水飞溅调节的麻烦。 热纯水干燥
对应的面罩尺寸,最多7英寸。专用盒最多可装20张。
日本进口techvision全自动光掩膜清洗装置 TWC-200A 规格参数
・轻松去除附着在掩模上的抗蚀剂
・轻松移除蒙版上的粒子
・清洗液开发对环境友好的温和的水溶性药液
・从热硫酸和硫酸过水等危险中解脱出来
・不需要昂贵的去除剂和显影液
用途:平板显示器,MEMS器件,精细图案PCB/FPC/TAB,化合物半导体,薄膜电子元件等。
TWC系列可同时去除附着在掩模上的抗蚀剂和颗粒。使用专用药液去除抗蚀剂和TW系列培养的颗粒去除技术,有助于提高口罩的清洁度。
全自动光掩膜清洗装置《TWC-200A》是一下子去除附着在掩模上的1μm以上的颗粒和抗蚀剂残渣的to盒的全自动光掩膜清洗装置。
干燥采用热纯水干燥,而不是传统的气刀干燥,并采用免调节设计,省去了水飞溅调节的麻烦。 热纯水干燥
对应的面罩尺寸,最多7英寸。专用盒最多可装20张。